Согласно информации, появившейся в западных СМИ, Китай получил доступ к технологии экстремальной ультрафиолетовой литографии (Extreme Ultraviolet Lithography), без которой невозможно производство чипов на современных техпроцессах в 5 нм (применяются во флагманских смартфонах и серверах дата-центров), 3 нм (новейшие процессоры с максимальной энергоэффективностью), 2 нм (экспериментальные процессоры) и ниже.
По данным Reuters, в начале 2025 года в Китае был создан первый рабочий прототип литографической установки, генерирующий экстремальное ультрафиолетовое излучение (EUV). Ожидается, что на следующем этапе в 2028-2030 годах китайцы перейдут к опытной печати современных чипов.
Ключ к победе в гонке технологий
Технология EUVL десятилетиями оставалась т.н. "бутылочным горлышком" индустрии полупроводников и служила ключевым фактором технологического превосходства США и их союзников.
Именно с помощью нее ведущие производители полупроводников вроде NVIDIA, AMD, Intel, Apple и Samsung могли совершенствовать техпроцесс своих чипов, которые используются во всей современной электронике (от процессоров и смартфонов до военной техники и систем связи), позволяя размещать все больше транзисторов на кристалле, повышая их вычислительную производительность и снижая энергопотребление.
При этом серийное производство передовых литографических машин все эти годы контролирует единственная в мире нидерландская компания-монополист ASML, за счет чего еще в сентябре 2023 года Вашингтон смог установить жесткий и эффективно работающий экспортный контроль, сделав установки доступными только для ближайших союзников США.
Импортозамещение по-китайски
Для Китая это означало простую развилку: навсегда остаться в положении догоняющего, зависящего от политических решений третьих стран, либо попытаться создать собственную индустрию литографии внутри страны.
В результате Пекин дал старт закрытой государственной программе, которую в американских СМИ по старой привычке поспешили сравнить с "китайским проектом Манхэттен".
Сообщается, что ключевая ставка была сделана на кадры: Китай начал активно привлекать инженеров и ученых, ранее работавших в компании ASML и связанных с ней фирмах, включая вышедших на пенсию специалистов.
Успех привлечения уникальных высококвалифицированных иностранных специалистов был прост: деньги, деньги и еще раз деньги. Речь шла не просто о высоких зарплатах от нескольких сотен тысяч до нескольких миллионов долларов в месяц, а о полном социальном пакете (включая жилье, охрану, полную административную поддержку и т.д.), а также прямом доступе к высшему руководству страны.
В результате Пекин сумел собрать вокруг закрытого проекта несколько десятков ведущих ученых и около сотни инженеров, а ответственность за технологические аспекты и координацию работ взяла на себя компания Huawei при поддержке SMIC, SMEE, Naura Technology Group и AMEC, а также профильных институтов Китайской академии наук.
Прогнозы
Хотя Китай и смог добиться серьезного прорыва, генерация EUV излучения — это лишь первый шаг к созданию коммерческой технологии. В самом позитивном сценарии создание полностью работающей литографической машины займет не менее 5 лет.
Параллельно западные компании наращивают свой технологический отрыв: в декабре 2025 года компания Intel установила на своем производстве новинку от ASML — первую литографическую установку на основе технологии экстремального ультрафиолетового излучения с высокой числовой апертурой (High-NA EUVL), что позволит ей создавать чипы следующего поколения.
Однако сама перспектива появления альтернативного технологического центра в полупроводниковой индустрии подрывает монополию Запада на инновации и серьезно меняет динамику гонки за первенство в области ИИ.
